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半導體先進光刻理論與技術(shù) 
定 價：198 元
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9 7 4 8 3 7 2 1 7 2 6 2 6 讀者對象:本書適用于從事光刻技術(shù)研究與應用的科研與工程技術(shù)人員
本書介紹了當前主流的光學光刻、先進的極紫外光刻以及下一代光刻技術(shù)。主要內(nèi)容涵蓋了光刻理論、工藝、材料、設(shè)備、關(guān)鍵部件、分辨率增強、建模與仿真、典型物理與化學效應等，包括光刻技術(shù)的前沿進展，還總結(jié)了極紫外光刻的特點、存在問題與發(fā)展方向。
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