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極紫外光刻

極紫外光刻

定  價(jià):128 元

        

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  • 作者:[美]哈利·杰·萊文森 著,高偉民 譯
  • 出版時(shí)間:2022/9/1
  • ISBN:9787547857212
  • 出 版 社:上?茖W(xué)技術(shù)出版社
  • 中圖法分類:TN 
  • 頁(yè)碼:
  • 紙張:
  • 版次:1
  • 開本:
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讀者對(duì)象:廣大讀者

《極紫外光刻》是一本論述極紫外光刻技術(shù)的最新專著。本書全面而又精煉地介紹了極紫外光刻技術(shù)的各個(gè)方面及其發(fā)展歷程,內(nèi)容不僅涵蓋極紫外光源、極紫外光刻曝光系統(tǒng)、極紫外掩模版、極紫外光刻膠、極紫外計(jì)算光刻等方面,而且還介紹了極紫外光刻生態(tài)系統(tǒng)的其他方面,如極紫外光刻工藝特點(diǎn)和工藝控制、極紫外光刻量測(cè)的特殊要求,以及對(duì)技術(shù)發(fā)展路徑有著重要影響的極紫外光刻的成本分析等內(nèi)容。最后本書還討論了滿足未來(lái)的芯片工藝節(jié)點(diǎn)要求的極紫外光刻技術(shù)發(fā)展方向。
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