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目標RCS測量、處理和評估貫穿于隱身裝備設計、研制、試驗和使用維護的各個階段�！独走_目標散射特性測量與處理技術》在對RCS測量與處理技術領域公開文獻資料進行歸納和分析的同時，重點對作者所在實驗室近年來在該領域的基礎理論、實驗和應用性研究成果進行了系統(tǒng)的總結，尤其是對外現(xiàn)有文獻鮮有涉及而工程實用價值又較高的新模型、新方法和新技術進行了討論。全書一半以上的篇幅用于闡述作者所在實驗室的理論和技術研究成果。
　　全書共分為8章，首先建立目標寬帶散射函數(shù)和散射分布函數(shù)的概念，然后圍繞可探測目標的RCS測試場和寬帶成像診斷測量技術問題進行討論，主要包括：RCS測試場和寬帶相參測量雷達、低散射目標支架設計方法、新型RCS定標體與定標處理技術、背景輔助測量與提取技術、目標高分辨率診斷成像技術、極化校準測量與處理技術，以及RCS數(shù)據(jù)的處理、評估與報告等。
　　《雷達目標散射特性測量與處理技術》可供從事低可探測目標設計實驗、目標與環(huán)境特性、雷達目標散射現(xiàn)象學、武器系統(tǒng)仿真等技術領域的廣大研究人員、工程技術人員和部隊官兵參考，也可作為相關*校教師和研究生的教學與研究參考書。