本書從SIW傳輸線中常見縫隙出發(fā),分析其極化特性,探索輻射單元要求;結(jié)合經(jīng)典波導(dǎo)理論和SIW結(jié)構(gòu)實際,闡述耦合器、倒相器和過渡結(jié)構(gòu)設(shè)計方法,形成普適性的SIW多極化天線饋電技術(shù);依據(jù)腔體諧振機理和高次模形成技術(shù),分析SIW單腔體和多腔體多極化天線設(shè)計方法;結(jié)合漏波天線輻射機理和人工電磁材料技術(shù),闡明目字形縫隙、多縫結(jié)構(gòu)
《海洋電磁發(fā)射機可控源電路及其控制》一書對海洋電磁發(fā)射機移相軟開關(guān)可控源電路、ZVZCS可控源電路、三電平可控源電路以及組合可控源電路進行了深入的理論和應(yīng)用研究,分析了各種可控源電路的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)、工作原理、數(shù)學(xué)建模、控制系統(tǒng)設(shè)計、特性分析、元器件參數(shù)計算和選型等。根據(jù)以上理論,作者研制出200A海洋電磁發(fā)射機樣機,并對其
本書系統(tǒng)闡述了多極化矢量天線陣列及其信號處理的新理論與新方法,主要包括波束優(yōu)化設(shè)計與極化調(diào)控,極化波束方向圖分集,多極化主動探測與感知,共點矢量天線稀疏陣列設(shè)計,非共點矢量天線陣列設(shè)計及其信號處理,寬帶降秩與滿秩處理,以及深度學(xué)習(xí)擬合與稀疏重構(gòu)七個問題。
本書深入討論毫米波天線的技術(shù)要求、基本類型以及各類高性能的毫米波天線陣列的設(shè)計、工藝、制造和性能評估方法,展現(xiàn)毫米波技術(shù)的新協(xié)議、新要求、新技術(shù)進展以及潛在應(yīng)用。
我國人口老齡化程度持續(xù)加深,給社會經(jīng)濟發(fā)展帶來嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。在此背景下,腕帶式可穿戴設(shè)備以其多功能、低成本和便攜性,有潛力成為科技養(yǎng)老系統(tǒng)的重要部分。然而,目前腕帶式可穿戴設(shè)備在老年人中的采納度低,并且既缺少對中國老年人可穿戴設(shè)備采納意愿的研究,也缺少關(guān)于如何提升采納意愿的探究。因此,本文通過考慮中國老年人可穿載設(shè)備的采納
本書系統(tǒng)地討論了量子天線在目標(biāo)探測中的應(yīng)用原理,詳細(xì)介紹了相關(guān)數(shù)學(xué)及量子電磁理論,主要包括量子天線的基本量子動力學(xué)、量子天線相關(guān)計算、引力理論計算、重力場感應(yīng)電流計算、光子路徑的重力場效應(yīng)、量子天線與導(dǎo)電液體的類比、隨機濾波量子門等內(nèi)容,重點講述了量子天線的基本量子動力學(xué)、量子天線相關(guān)計算、引力理論計算和重力場感應(yīng)電流
本書是國外天線技術(shù)領(lǐng)域的前沿專著,全書共7章,系統(tǒng)介紹了有源電掃陣列基本原理、概念、系統(tǒng)構(gòu)成和工程應(yīng)用,主要內(nèi)容包括有源電掃陣列技術(shù)發(fā)展、基本工作原理、天線陣列設(shè)計、收發(fā)組件設(shè)計、系統(tǒng)架構(gòu)設(shè)計、射頻鏈路設(shè)計、波束形成方法等。本書內(nèi)容有助于讀者理解有源電掃陣列關(guān)鍵技術(shù)、系統(tǒng)構(gòu)成、關(guān)鍵參數(shù)和常用架構(gòu),具有結(jié)構(gòu)嚴(yán)謹(jǐn)、內(nèi)容全面
本書主要總結(jié)作者近年來在空間網(wǎng)狀天線方面的研究成果。全書共13章,主要介紹網(wǎng)狀天線反射面拓?fù)湓O(shè)計、幾何設(shè)計、形態(tài)設(shè)計、精度退化機理分析,以及形面保形控性的環(huán)境適應(yīng)性設(shè)計、精度調(diào)整、模態(tài)參數(shù)識別、波動動力學(xué)分析及控制、相似性等效等內(nèi)容。
顯示技術(shù)是利用電子技術(shù)提供變換的視覺信息的技術(shù)。在生產(chǎn)和生活中,人們需要利用大量的視覺信息,顯示技術(shù)是人機交互的主要紐帶,有著廣闊的發(fā)展空間和應(yīng)用前景。我國是顯示產(chǎn)業(yè)大國,本課程結(jié)合領(lǐng)域現(xiàn)狀,為學(xué)生讀者拓寬視野,系統(tǒng)性介紹各種顯示屏幕技術(shù),包括當(dāng)前主流的液晶顯示(LCD)、發(fā)光二極管(LED)和有機發(fā)光二極管(OLED
本書聚焦新型顯示領(lǐng)域,選取分別代表新型顯示領(lǐng)域成熟技術(shù)、當(dāng)前熱點技術(shù)和未來具 有廣闊前景技術(shù)的LCD顯示技術(shù)、OLED顯示技術(shù)、Micro-LED顯示技術(shù)為本書的三大主要研 究方向,從專利申請態(tài)勢、技術(shù)發(fā)展路線、重點申請人的重要專利的布局情況等方面,進行 專利分析。同時,本書結(jié)合LCD、OLED及Micro-LE